Vidre òptic de sílice fusionada JGS1, JGS2 i JGS3
Diagrama detallat


Visió general de la sílice fosa JGS1, JGS2 i JGS3

JGS1, JGS2 i JGS3 són tres graus de sílice fosa dissenyats amb precisió, cadascun dissenyat per a regions específiques de l'espectre òptic. Produïts a partir de sílice d'ultraalta puresa mitjançant processos de fusió avançats, aquests materials presenten una claredat òptica excepcional, una baixa expansió tèrmica i una estabilitat química excel·lent.
-
JGS1– Sílice fosa de grau UV optimitzada per a la transmissió ultraviolada profunda.
-
JGS2– Sílice fosa de grau òptic per a aplicacions des del visible fins a l'infraroig proper.
-
JGS3– Sílice fosa de grau IR amb un rendiment infraroig millorat.
Seleccionant el grau adequat, els enginyers poden aconseguir una transmissió, durabilitat i estabilitat òptimes per a sistemes òptics exigents.
Grau de JGS1, JGS2 i JGS3
Sílice fosa JGS1 – Grau UV
Rang de transmissió:185–2500 nm
Punt fort principal:Transparència superior en longituds d'ona UV profundes.
La sílice fosa JGS1 es produeix utilitzant sílice sintètica d'alta puresa amb nivells d'impuresa acuradament controlats. Ofereix un rendiment excepcional en sistemes UV, oferint una alta transmitància per sota de 250 nm, una autofluorescència molt baixa i una forta resistència a la solarització.
Aspectes destacats del rendiment de JGS1:
-
Transmissió >90% des de 200 nm fins al rang visible.
-
Baix contingut d'hidroxil (OH) per minimitzar l'absorció d'UV.
-
Llindar de dany làser alt adequat per a làsers excímers.
-
Fluorescència mínima per a una mesura UV precisa.
Aplicacions comunes:
-
Òptica de projecció de fotolitografia.
-
Finestres i lents de làser excímer (193 nm, 248 nm).
-
Espectròmetres UV i instrumentació científica.
-
Metrologia d'alta precisió per a la inspecció UV.
Sílice fosa JGS2 – Grau òptic
Rang de transmissió:220–3500 nm
Punt fort principal:Rendiment òptic equilibrat des del visible fins a l'infraroig proper.
JGS2 està dissenyat per a sistemes òptics d'ús general on el rendiment de la llum visible i el NIR són clau. Tot i que proporciona una transmissió UV moderada, el seu valor principal rau en la seva uniformitat òptica, baixa distorsió del front d'ona i excel·lent resistència tèrmica.
Aspectes destacats del rendiment de JGS2:
-
Alta transmitància a través de l'espectre VIS-NIR.
-
Capacitat UV fins a ~220 nm per a aplicacions flexibles.
-
Excel·lent resistència al xoc tèrmic i a l'estrès mecànic.
-
Índex de refracció uniforme amb birefringència mínima.
Aplicacions comunes:
-
Òptica d'imatge de precisió.
-
Finestres làser per a longituds d'ona visibles i NIR.
-
Divisors de feix, filtres i prismes.
-
Components òptics per a sistemes de microscòpia i projecció.
Sílice fosa JGS3 – IR
Grau
Rang de transmissió:260–3500 nm
Punt fort principal:Transmissió infraroja optimitzada amb baixa absorció d'OH.
La sílice fosa JGS3 està dissenyada per proporcionar la màxima transparència infraroja reduint el contingut d'hidroxil durant la producció. Això minimitza els pics d'absorció a ~2,73 μm i ~4,27 μm, que poden degradar el rendiment en aplicacions d'infrarojos.
Aspectes destacats del rendiment de JGS3:
-
Transmissió d'infrarojos superior en comparació amb JGS1 i JGS2.
-
Pèrdues mínimes d'absorció relacionades amb OH.
-
Excel·lent resistència als cicles tèrmics.
-
Estabilitat a llarg termini en ambients d'alta temperatura.
Aplicacions comunes:
-
Cubetes i finestres d'espectroscòpia d'infrarojos.
-
Imatges tèrmiques i òptica de sensors.
-
Cobertes protectores d'infrarojos en entorns durs.
-
Vidres industrials per a processos d'alta temperatura.
Dades comparatives clau de JGS1, JGS2 i JGS3
Ítem | JGS1 | JGS2 | JGS3 |
Mida màxima | <Φ200mm | <Φ300mm | <Φ200mm |
Gamma de transmissió (relació de transmissió mitjana) | 0,17~2,10 µm (Tav. > 90%) | 0,26~2,10 µm (Tav. > 85%) | 0,185~3,50 µm (Tav>85%) |
OH- Contingut | 1200 ppm | 150 ppm | 5 ppm |
Fluorescència (ex. 254 nm) | Pràcticament gratuït | Vb fort | VB fort |
Contingut d'impureses | 5 ppm | 20-40 ppm | 40-50 ppm |
Constant de birefringència | 2-4 nm/cm | 4-6 nm/cm | 4-10 nm/cm |
Mètode de fusió | CVD sintètic | Fusió oxi-hidrogen | Fusió elèctrica |
Aplicacions | Substrat làser: Finestra, lent, prisma, mirall... | Semiconductor i finestra d'alta temperatura | IR i UV substrat |
Preguntes freqüents: sílice fosa JGS1, JGS2 i JGS3
P1: Quines són les principals diferències entre JGS1, JGS2 i JGS3?
A:
-
JGS1– Sílice fosa de grau UV amb una transmissió excepcional a partir de 185 nm, ideal per a òptica UV profund i làsers excímers.
-
JGS2– Sílice fosa de grau òptic per a aplicacions de visible a infraroig proper (220–3500 nm), adequada per a òptica d'ús general.
-
JGS3– Sílice fosa de grau IR optimitzada per a infrarojos (260–3500 nm) amb pics d'absorció d'OH reduïts.
P2: Quina qualificació hauria de triar per a la meva sol·licitud?
A:
-
TriaJGS1per litografia UV, espectroscòpia UV o sistemes làser de 193 nm/248 nm.
-
TriaJGS2per a imatges visibles/NIR, òptica làser i dispositius de mesura.
-
TriaJGS3per a espectroscòpia d'infrarojos, imatges tèrmiques o finestres de visualització d'alta temperatura.
P3: Tots els graus JGS tenen la mateixa força física?
A:Sí. JGS1, JGS2 i JGS3 comparteixen les mateixes propietats mecàniques (densitat, duresa i expansió tèrmica) perquè totes estan fetes de sílice fosa d'alta puresa. Les principals diferències són òptiques.
P4: Els JGS1, JGS2 i JGS3 són resistents als danys per làser?
A:Sí. Tots els graus tenen un llindar de dany làser alt (>20 J/cm² a 1064 nm, polsos de 10 ns). Per als làsers UV,JGS1ofereix la màxima resistència a la solarització i a la degradació superficial.
Sobre nosaltres
XKH s'especialitza en el desenvolupament, la producció i la venda d'alta tecnologia de vidre òptic especial i nous materials cristallins. Els nostres productes serveixen a l'electrònica òptica, l'electrònica de consum i l'exèrcit. Oferim components òptics de safir, cobertes de lents per a telèfons mòbils, ceràmica, LT, SIC de carbur de silici, quars i oblies de cristall semiconductor. Amb experiència qualificada i equips d'avantguarda, destaquem en el processament de productes no estàndard, amb l'objectiu de ser una empresa líder en materials optoelectrònics d'alta tecnologia.
