Barra i passador d'elevació de safir industrial, passador de safir Al2O3 d'alta duresa per a la manipulació d'hòsties, sistema de radar i processament de semiconductors: diàmetre d'1,6 mm a 2 mm
Resum
La barra i el pin d'elevació industrial de safir estan dissenyats amb precisió i durabilitat per a aplicacions d'alta demanda, com ara manipulació d'hòsties, sistemes de radar i processament de semiconductors. Fabricats amb un cristall Al2O3 (safir), aquests pins ofereixen una duresa i una resistència tèrmica excepcionals. Disponibles en diàmetres que van d'1,6 mm a 2 mm, aquestes barres i passadors d'elevació es poden personalitzar per a requisits industrials especialitzats. Proporcionen una excel·lent resistència a les ratllades i un baix desgast, cosa que els converteix en components essencials per a sistemes d'alt rendiment.
Característiques
● Alta duresa i durabilitat:Amb una duresa Mohs de 9, aquestes agulles i barres són resistents a les ratllades, garantint un rendiment durador en aplicacions de gran desgast.
●Mides personalitzables:Disponible en diàmetres d'1,6 mm a 2 mm, amb l'opció de dimensions personalitzades per satisfer les necessitats específiques d'aplicació.
● Resistència tèrmica:L'alt punt de fusió de Sapphire (2040 °C) garanteix que aquests pins puguin suportar ambients d'alta temperatura sense degradar-se.
●Excel·lents propietats òptiques:La claredat òptica inherent de Sapphire fa que aquests pins d'elevació siguin adequats per al seu ús en sistemes òptics i dispositius de precisió.
● Baixa fricció i desgast:La superfície llisa del safir minimitza el desgast tant del passador d'elevació com de l'equip, reduint els costos de manteniment.
Aplicacions
● Manipulació d'hòsties:S'utilitza en el processament de semiconductors per a la manipulació delicada d'hòsties.
● Sistemes de radar:Pins d'alt rendiment utilitzats en sistemes de radar per la seva durabilitat i precisió.
●Processament de semiconductors:Perfecte per manipular hòsties i altres components en processos de fabricació de semiconductors d'alta tecnologia.
● Sistemes industrials:Adequat per a una varietat d'aplicacions industrials que requereixen una gran durabilitat i precisió.
Paràmetres del producte
| Característica | Especificació |
| Material | Cristall únic Al2O3 (Safir) |
| Duresa | Mohs 9 |
| Gamma de diàmetres | 1,6 mm a 2 mm |
| Conductivitat tèrmica | 27 W·m^-1·K^-1 |
| Punt de fusió | 2040 °C |
| Densitat | 3,97 g/cc |
| Aplicacions | Manipulació de hòsties, sistemes de radar, processament de semiconductors |
| Personalització | Disponible en talles personalitzades |
Preguntes i respostes (preguntes freqüents)
P1: Per què el safir és un bon material per a les agulles d'elevació que s'utilitzen en la manipulació d'hòsties?
A1: El safir és moltresistent a les ratlladesi té apunt de fusió elevat, el que el converteix en un material excel·lent per a operacions delicades com aramanipulació de les hòsties, on la precisió i la durabilitat són clau.
P2: Quin és l'avantatge de personalitzar la mida de les agulles d'elevació de safir?
A2: Les mides personalitzades permeten que aquests passadors d'elevació s'adaptin a aplicacions específiques, garantint un rendiment òptim en diversos sistemes, inclososprocessament de semiconductorsisistemes de radar.
P3: Es poden utilitzar agulles d'elevació de safir en aplicacions d'alta temperatura?
A3: Sí,safirté apunt de fusió elevatde2040 °C, el que el fa ideal per al seu ús en ambients d'alta temperatura.
Diagrama detallat
