Substrat de recuperació fictici de tipus P/N (100) de silici de 8 polzades amb oblia de silici de 1-100 Ω
Introducció de la caixa de les oblies
L'oblia de silici de 8 polzades és un material de substrat de silici d'ús comú i s'utilitza àmpliament en el procés de fabricació de circuits integrats. Aquestes oblies de silici s'utilitzen habitualment per fabricar diversos tipus de circuits integrats, inclosos microprocessadors, xips de memòria, sensors i altres dispositius electrònics. Les oblies de silici de 8 polzades s'utilitzen habitualment per fabricar xips de mides relativament grans, amb avantatges com ara una superfície més gran i la capacitat de fabricar més xips en una sola oblia de silici, cosa que porta a una major eficiència de producció. L'oblia de silici de 8 polzades també té bones propietats mecàniques i químiques, cosa que és adequada per a la producció de circuits integrats a gran escala.
Característiques del producte
Oblia de silici polit de 8" tipus P/N (25 unitats)
Orientació: 200
Resistivitat: 0,1 - 40 ohm•cm (Pot variar d'un lot a un altre)
Gruix: 725 +/- 20 µm
Prime/Monitor/Qualificació de prova
PROPIETATS DELS MATERIALS
Paràmetre | Característica |
Tipus/Dopant | P, N de bor, N de fòsfor, N d'antimoni, Arsènic |
Orientacions | <100>, <111> orientacions de tall segons les especificacions del client |
Contingut d'oxigen | 1019ppmA Toleràncies personalitzades segons les especificacions del client |
Contingut de carboni | < 0,6 ppmA |
PROPIETATS MECÀNIQUES
Paràmetre | Prime | Monitor/Prova A | Prova |
Diàmetre | 200 ± 0,2 mm | 200 ± 0,2 mm | 200 ± 0,5 mm |
Gruix | 725 ± 20 µm (estàndard) | 725 ± 25 µm (estàndard) 450 ± 25 µm 625 ± 25 µm 1000 ± 25 µm 1300 ± 25 µm 1500 ± 25 µm | 725 ± 50 µm (estàndard) |
TTV | < 5 µm | < 10 µm | < 15 µm |
Arc | < 30 µm | < 30 µm | < 50 µm |
Embolcall | < 30 µm | < 30 µm | < 50 µm |
Arrodoniment de vores | SEMI-ESTÀNDARD | ||
Marcatge | Només pis semi-plan primària, pis semi-estandard Jeida Flat, Notch |
Paràmetre | Prime | Monitor/Prova A | Prova |
Criteris de la part frontal | |||
Condició de la superfície | Polit químic mecànic | Polit químic mecànic | Polit químic mecànic |
Rugositat superficial | < 2 A° | < 2 A° | < 2 A° |
Contaminació Partícules a >0,3 µm | = 20 | = 20 | = 30 |
Boira, Pous Pell de taronja | Cap | Cap | Cap |
Saw, Marks Estriacions | Cap | Cap | Cap |
Criteris del revers | |||
Esquerdes, potes de gallina, marques de serra, taques | Cap | Cap | Cap |
Condició de la superfície | Gravat càustic |
Diagrama detallat


