Substrat de recuperació fictici de tipus P/N (100) de silici de 8 polzades amb oblia de silici de 1-100 Ω

Descripció breu:

Gran inventari d'oblies polides de doble cara, totes les oblies de 50 a 400 mm de diàmetre. Si la vostra especificació no està disponible al nostre inventari, hem establert relacions a llarg termini amb molts proveïdors que poden fabricar oblies a mida que s'adaptin a qualsevol especificació única. Les oblies polides de doble cara es poden utilitzar per a silici, vidre i altres materials que s'utilitzen habitualment a la indústria dels semiconductors.


Detall del producte

Etiquetes de producte

Introducció de la caixa de les oblies

L'oblia de silici de 8 polzades és un material de substrat de silici d'ús comú i s'utilitza àmpliament en el procés de fabricació de circuits integrats. Aquestes oblies de silici s'utilitzen habitualment per fabricar diversos tipus de circuits integrats, inclosos microprocessadors, xips de memòria, sensors i altres dispositius electrònics. Les oblies de silici de 8 polzades s'utilitzen habitualment per fabricar xips de mides relativament grans, amb avantatges com ara una superfície més gran i la capacitat de fabricar més xips en una sola oblia de silici, cosa que porta a una major eficiència de producció. L'oblia de silici de 8 polzades també té bones propietats mecàniques i químiques, cosa que és adequada per a la producció de circuits integrats a gran escala.

Característiques del producte

Oblia de silici polit de 8" tipus P/N (25 unitats)

Orientació: 200

Resistivitat: 0,1 - 40 ohm•cm (Pot variar d'un lot a un altre)

Gruix: 725 +/- 20 µm

Prime/Monitor/Qualificació de prova

PROPIETATS DELS MATERIALS

Paràmetre Característica
Tipus/Dopant P, N de bor, N de fòsfor, N d'antimoni, Arsènic
Orientacions <100>, <111> orientacions de tall segons les especificacions del client
Contingut d'oxigen 1019ppmA Toleràncies personalitzades segons les especificacions del client
Contingut de carboni < 0,6 ppmA

PROPIETATS MECÀNIQUES

Paràmetre Prime Monitor/Prova A Prova
Diàmetre 200 ± 0,2 mm 200 ± 0,2 mm 200 ± 0,5 mm
Gruix 725 ± 20 µm (estàndard) 725 ± 25 µm (estàndard) 450 ± 25 µm

625 ± 25 µm

1000 ± 25 µm

1300 ± 25 µm

1500 ± 25 µm

725 ± 50 µm (estàndard)
TTV < 5 µm < 10 µm < 15 µm
Arc < 30 µm < 30 µm < 50 µm
Embolcall < 30 µm < 30 µm < 50 µm
Arrodoniment de vores SEMI-ESTÀNDARD
Marcatge Només pis semi-plan primària, pis semi-estandard Jeida Flat, Notch
Paràmetre Prime Monitor/Prova A Prova
Criteris de la part frontal
Condició de la superfície Polit químic mecànic Polit químic mecànic Polit químic mecànic
Rugositat superficial < 2 A° < 2 A° < 2 A°
Contaminació

Partícules a >0,3 µm

= 20 = 20 = 30
Boira, Pous

Pell de taronja

Cap Cap Cap
Saw, Marks

Estriacions

Cap Cap Cap
Criteris del revers
Esquerdes, potes de gallina, marques de serra, taques Cap Cap Cap
Condició de la superfície Gravat càustic

Diagrama detallat

IMG_1463 (1)
IMG_1463 (2)
IMG_1463 (3)

  • Anterior:
  • Següent:

  • Escriu el teu missatge aquí i envia'ns-el