Equip de serra de tall de precisió totalment automàtic de 12 polzades Sistema de tall dedicat a les oblies per a Si/SiC i HBM (Al)
Paràmetres tècnics
Paràmetre | Especificació |
Mida de treball | Φ8", Φ12" |
Fus | Doble eix 1.2/1.8/2.4/3.0, màx. 60000 rpm |
Mida de la fulla | 2" ~ 3" |
Eix Y1 / Y2
| Increment d'un sol pas: 0,0001 mm |
Precisió de posicionament: < 0,002 mm | |
Amplada de tall: 310 mm | |
Eix X | Rang de velocitat d'alimentació: 0,1–600 mm/s |
Eix Z1 / Z2
| Increment d'un sol pas: 0,0001 mm |
Precisió de posicionament: ≤ 0,001 mm | |
Eix θ | Precisió de posicionament: ±15" |
Estació de neteja
| Velocitat de rotació: 100–3000 rpm |
Mètode de neteja: Esbandida i centrifugació automàtica | |
Voltatge de funcionament | Trifàsic 380V 50Hz |
Dimensions (Ample × Pr × Alt) | 1550 × 1255 × 1880 mm |
Pes | 2100 kg |
Principi de funcionament
L'equip aconsegueix un tall d'alta precisió mitjançant les tecnologies següents:
1. Sistema de cargol d'alta rigidesa: velocitat de rotació de fins a 60.000 RPM, equipat amb fulles de diamant o capçals de tall làser per adaptar-se a diferents propietats del material.
2. Control de moviment multieix: precisió de posicionament dels eixos X/Y/Z de ±1 μm, combinada amb escales de reixeta d'alta precisió per garantir trajectòries de tall sense desviacions.
3. Alineació visual intel·ligent: el CCD d'alta resolució (5 megapíxels) reconeix automàticament els carrers de tall i compensa la deformació o la desalineació del material.
4. Refrigeració i eliminació de pols: sistema integrat de refrigeració per aigua pura i eliminació de pols per succió al buit per minimitzar l'impacte tèrmic i la contaminació de partícules.
Modes de tall
1. Tallat amb fulla: adequat per a materials semiconductors tradicionals com el Si i el GaAs, amb amplades de tall de 50 a 100 μm.
2. Tall làser ocult: s'utilitza per a oblies ultraprimes (<100 μm) o materials fràgils (per exemple, LT/LN), cosa que permet una separació sense estrès.
Aplicacions típiques
Material compatible | Camp d'aplicació | Requisits de processament |
Silici (Si) | Circuits integrats, sensors MEMS | Tall d'alta precisió, estellat <10 μm |
Carbur de silici (SiC) | Dispositius d'alimentació (MOSFET/díodes) | Tall amb baix dany, optimització de la gestió tèrmica |
Arsenur de gal·li (GaAs) | dispositius de radiofreqüència, xips optoelectrònics | Prevenció de microesquerdes, control de la neteja |
Substrats LT/LN | Filtres SAW, moduladors òptics | Tall sense estrès, preservant les propietats piezoelèctriques |
substrats ceràmics | Mòduls d'alimentació, encapsulat LED | Processament de materials d'alta duresa, planitud de les vores |
Marcs QFN/DFN | Embalatge avançat | Tall simultani de diversos xips, optimització de l'eficiència |
Obles WLCSP | Envasament a nivell de galeta | Tallatge sense danys d'oblies ultrafines (50 μm) |
Avantatges
1. Escaneig de fotogrames de casset d'alta velocitat amb alarmes de prevenció de col·lisions, posicionament de transferència ràpida i forta capacitat de correcció d'errors.
2. Mode de tall de doble eix optimitzat, que millora l'eficiència aproximadament en un 80% en comparació amb els sistemes d'un sol eix.
3. Cargols de boles importats amb precisió, guies lineals i control de bucle tancat amb escala de reixeta de l'eix Y, que garanteixen l'estabilitat a llarg termini del mecanitzat d'alta precisió.
4. Càrrega/descàrrega totalment automatitzades, posicionament de transferència, tall d'alineació i inspecció de ranures, cosa que redueix significativament la càrrega de treball de l'operador (OP).
5. Estructura de muntatge del cargol tipus pòrtic, amb un espaiament mínim de doble fulla de 24 mm, que permet una adaptabilitat més àmplia per als processos de tall de doble cargol.
Característiques
1. Mesura d'alçada sense contacte d'alta precisió.
2. Tall de doble fulla amb múltiples oblies en una sola safata.
3. Sistemes de calibratge automàtic, inspecció de talls i detecció de trencaments de fulles.
4. Admet diversos processos amb algoritmes d'alineació automàtica seleccionables.
5. Funcionalitat d'autocorrecció de fallades i monitorització multiposició en temps real.
6. Capacitat d'inspecció del primer tall després del tall inicial.
7. Mòduls d'automatització de fàbrica personalitzables i altres funcions opcionals.
Serveis d'equipament
Oferim suport integral des de la selecció d'equips fins al manteniment a llarg termini:
(1) Desenvolupament personalitzat
· Recomanar solucions de tall amb fulla/làser basades en les propietats del material (per exemple, duresa del SiC, fragilitat del GaAs).
· Oferir proves de mostra gratuïtes per verificar la qualitat del tall (inclosa l'esquerda, l'amplada del tall, la rugositat de la superfície, etc.).
(2) Formació tècnica
· Formació bàsica: funcionament de l'equip, ajust de paràmetres, manteniment rutinari.
· Cursos avançats: Optimització de processos per a materials complexos (per exemple, tall sense estrès de substrats LT).
(3) Assistència postvenda
· Resposta 24/7: Diagnòstic remot o assistència in situ.
· Subministrament de recanvis: eixos, fulles i components òptics en estoc per a una substitució ràpida.
· Manteniment preventiu: calibratge regular per mantenir la precisió i allargar la vida útil.

Els nostres avantatges
✔ Experiència en la indústria: Donant servei a més de 300 fabricants mundials de semiconductors i electrònica.
✔ Tecnologia d'avantguarda: Les guies lineals de precisió i els servosistemes garanteixen una estabilitat líder en la indústria.
✔ Xarxa de servei global: Cobertura a Àsia, Europa i Amèrica del Nord per a assistència localitzada.
Per a proves o consultes, contacteu amb nosaltres!

